Разработка использует метод лазерно-индуцированной разрядной плазмы (LDP), который отличается от традиционной технологии ASML. Новый подход упрощает конструкцию оборудования, делает его более энергоэффективным и снижает затраты на производство. По предварительным данным, массовое производство таких машин может начаться в 2026 году.
Крупный китайский производитель чипов SMIC до сих пор испытывает трудности с массовым выпуском 5-нм полупроводников из-за высоких затрат и низкой производительности.
Открыть "Китай начнет тестовое производство EUV-литографических машин" на FiNE NEWS.
Свежие комментарии